13311665350
13311665350
新聞資訊
NEWS INFORMATION管式爐可以選擇設置定點或者是30段可編的控制器，它主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。節能型的陶瓷纖維材料以及雙層結構，可以把外包溫度降到常溫。均溫區長，操作簡單，綜合性能指標比較高。爐管可以選擇配置石英玻璃、耐熱鋼以及陶瓷管等等材料。主要和功能和特點：1、加熱元件采用高溫電阻絲，爐膛保溫材料采用多晶纖維材料，保溫性能好，耐用，拉伸強度高，無雜球，純度高，節能效果明顯...
管式爐廣泛用于耐火材料、電子、陶瓷、冶金、機器、建材、特種材料、新材料開發等領域的試驗和生產中。在使用時，避免不了產生爐管結碳渣或者結焦等情況，通常的清洗方法有物理清洗法和化學清洗法2種：1、物理清洗采用機械力將管道內積存的碳渣擊碎，再用高速氣流將碎渣吹出，使管道暢通。化學清洗是通過化學反應破壞碳渣的結構或者與碳渣發生反應，達到清渣的目的。內部管道采用180°沖壓彎頭連接。如果采用物理清洗，一次清洗距離有限，需要在爐膛內部對爐管多處開門，逐段清洗后再逐段焊補，然后才能用高速氣...
真空釬焊爐主要由真空釬焊爐和真空系統兩部分組成，在真空狀態下，把一組焊接件加熱到填充金屬熔點溫度以上，但低于基體金屬熔點溫度，借助于填充金屬對基體金屬的濕潤和流動形成焊縫的一種焊接工藝（釬焊溫度因材料不同而異）。工作原理：該爐能夠進行真空釬焊、真空退火、真空時效等多種加工。可編多個不同程序，能控制和編入上百個熱處理曲線點，分上、下、左右、前后六區控溫，有多點和單點溫度記錄儀以及過溫保護裝置，爐溫均勻性可控制在恒定溫度范圍以內，另配有高純氮高流量強冷裝置。該設備具有裝爐量大、效...
1200℃管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。該款隔熱屏真空熱處理爐各項指標均達到了國際水平，可實現快速升溫和降溫，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。主要運用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負極材料、新能源、磨具等行業，也可用于氣氛環境下的熱處理，也可用于組成CVD系統，進行相關的鍍膜試驗生產。1200℃管式爐產品特點：1、一體化設計，結構緊湊，外形美觀，自帶腳輪，移...
壓力燒結爐結合了脫蠟、真空燒結和后續的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應氣體和高至100巴的壓力下工作。低孔隙度是高質量硬質合金的重要標志，氣體壓力燒結能有效消除硬質合金孔隙度，達到真空、氫氣燒結爐無法達到的效果。隨著經濟的發展，硬質合金生產技術不斷進步，壓力燒結已經成為高質量硬質合金燒結的一種主導技術。在硬質合金生產工藝中，燒結是決定硬質合金結構與性能的關鍵工序。是生產高性能硬質合金的關鍵設備，經壓力燒結的硬質合金制品，具有極優良的組織結構，...
PECVD系統技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態薄膜。在反應過程中，反應氣體從進氣口進入爐腔，逐漸擴散至樣品表面，在射頻源激發的電場作用下，反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。這些分解物發生化學反應，生成形成膜的初始成分和副反應物，這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態膜的晶核...
連續式回轉爐適用于無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料。回轉窯的主要特點：在熱處理即焙燒過程中，回轉筒體有個小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進料端移動到出料端。窯爐一般都是連續、自動運行的。它們可以直接運輸散裝固體，而不需要進一步的輸送設備，這使得這些窯爐更加節能。由于回轉窯焙燒工藝對散裝固體或者粉體有著重要的機械影響，因此必...
相信大多數人都知道，在工業上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規程進行操作。在可能發生危險之前，必須認真分析和研究安全操作規程。沒有多少設備在任何危急的情況下都能安全地運行。既使能做到這一點，但為了提高生產率，技術熟練的操作者往往也不愿意在整個生產過程中使用所有的安全系統。下面我們一起去看看氣氛管式爐...
當前位置：
